ODM 1.3mm*3.5mm Hafnium σβόλοι εξάτμισης

Hafnium 1.3*3.5 σβόλοι εξάτμισης που συσκευάζουν το κενό

Το κενό επίστρωμα είναι μια σημαντική πτυχή των κενών εφαρμογών. Είναι βασισμένο στην κενή τεχνολογία, η οποία χρησιμοποιεί τις φυσικές ή χημικές μεθόδους για να απορροφήσει μια σειρά νέων τεχνολογιών, όπως η δέσμη ηλεκτρονίων, η μοριακή ακτίνα, η ιονική ακτίνα, η ιονική ακτίνα, η ραδιοσυχνότητα και ο μαγνητικός έλεγχος. Παρέχει μια νέα διαδικασία προετοιμασιών λεπτών ταινιών για τη επιστημονική έρευνα και την πρακτική παραγωγή. Εν ολίγοις, η εξάτμιση ή η επιμετάλλωση των μετάλλων, των κραμάτων ή των ενώσεων στο κενό μπορεί να θεραπευτεί και να κατατεθεί στα ντυμένα αντικείμενα (αποκαλούμενα τα υποστρώματα, τα υποστρώματα ή υποστρώματα), το οποίο καλείται κενό επίστρωμα.

Πλεονεκτήματα:
(1) οι λεπτές ταινίες και τα υλικά μητρών επιλέγονται ευρέως, οι οποίες μπορούν να ελέγξουν το πάχος των ταινιών και να προετοιμάσουν τις λειτουργικές ταινίες με τις διάφορες λειτουργίες.
(2) η λεπτή ταινία προετοιμάζεται υπό τον κενό όρο. Το περιβάλλον είναι καθαρό, και δεν είναι εύκολο να μολύνει. Η ταινία με την καλή πυκνότητα, την υψηλή αγνότητα και την ομοιόμορφη ταινία μπορεί να ληφθεί.
(3) η συνδέοντας δύναμη μεταξύ της ταινίας και του υποστρώματος είναι καλή και η ταινία είναι σταθερή.
(4) το ξηρό χρώμα δεν παράγει το υγρό αποβλήτων και δεν έχει καμία περιβαλλοντική ρύπανση.
Η τεχνολογία κενού επιστρώματος περιλαμβάνει κυρίως την κενή εξάτμιση, κενή επιμετάλλωση, κενή ιονική επένδυση, κενή απόθεση ακτίνων, απόθεση χημικού ατμού και ούτω καθεξής. Εκτός από CVD, άλλες μέθοδοι έχουν τα ακόλουθα κοινά χαρακτηριστικά:
(1) όλα τα είδη τεχνολογιών επιστρώματος απαιτούν ένα συγκεκριμένο κενό περιβάλλον για να εξασφαλίσουν τη μετακίνηση των μορίων ατμού που διαμορφώνονται στο στάδιο της θέρμανσης της εξάτμισης ή της επιμετάλλωσης, χωρίς τη σύγκρουση, του φραξίματος και της παρέμβασης των πολυάριθμων μορίων αερίου στην ατμόσφαιρα, που εξαλείφουν τα επιβλαβή αποτελέσματα των ακαθαρσιών στην ατμόσφαιρα.
(2) οι διάφορες τεχνολογίες επιστρώματος απαιτούν μια πηγή ή έναν στόχο εξάτμισης για να εξατμίσουν το υλικό ταινιών σε ένα αέριο. Λόγω της συνεχούς βελτίωσης της πηγής ή του στόχου, η σειρά επιλογής των υλικών μεμβρανών έχει επεκταθεί πολύ. Εάν είναι μέταλλο, το κράμα μετάλλων, τα μεσομεταλλικά σύνθετα, κεραμικά ή οργανικά υλικά, οι διάφορες ταινίες μετάλλων και οι διηλεκτρικές ταινίες μπορούν να εξατμιστούν, και τα διαφορετικά υλικά μπορούν να εξατμιστούν συγχρόνως για να λάβουν τις πολυστρωματικές ταινίες.
(3) το πάχος ταινιών μπορεί να μετρηθεί και να ελεγχθεί ακριβέστερα στο στάδιο του σχηματισμού ταινιών με το κομμάτι προς κατεργασία που καλύπτεται, για να εξασφαλίσει την ομοιομορφία του πάχους ταινιών.
(4) η σύσταση και το μαζικό μέρος του υπόλοιπου αερίου κάθε ταινίας στην αίθουσα επιστρώματος μπορούν να ελεγχθούν ακριβώς μέσω της βαλβίδας ακριβούς καθορισμού, για να αποτρέψουν την οξείδωση των εξατμισμένων ουσιών, να ελαχιστοποιήσουν το μαζικό μέρος του οξυγόνου, και να γεμίσουν το αδρανές αέριο, το οποίο είναι αδύνατο για το υγρό επίστρωμα.
(5) λόγω της συνεχούς βελτίωσης του εξοπλισμού επιστρώματος, η διαδικασία επιστρώματος μπορεί να πραγματοποιηθεί συνεχώς, η οποία βελτιώνει πολύ την παραγωγή των προϊόντων και μολύνει το περιβάλλον στη διαδικασία παραγωγής.
(6) λόγω του κενού όρου της ταινίας, η ταινία έχει την υψηλή αγνότητα, την καλή πυκνότητα και τη φωτεινή επιφάνεια χωρίς επεξεργασία, η οποία καθιστά τις μηχανικές και χημικές ιδιότητες της ταινίας καλύτερες από την επιμεταλλώνοντας με ηλεκτρόλυση ταινία και τη χημική ταινία.