133OD*125ID*2940L ODM cOem στόχων σωλήνων κενού επιστρώματος

133OD*125ID*2940L περιλάβετε το τιτάνιο Gr2 ASTM B861-06 στόχων σωλήνων τιτανίου φλαντζών το υλικό κενό επίστρωμα στόχων

Η τάση ανάπτυξης της τεχνολογίας στόχων σωλήνων είναι στενά συνδεδεμένη στην τάση ανάπτυξης της τεχνολογίας λεπτών ταινιών στις προς τα κάτω βιομηχανίες. Η τεχνολογία κενού επιστρώματος διαιρείται γενικά σε δύο κατηγορίες: φυσική τεχνολογία τεχνολογίας απόθεσης ατμού (PVD) και απόθεσης χημικού ατμού (CVD).
Η φυσική τεχνολογία απόθεσης ατμού αναφέρεται στη χρήση ποικίλων φυσικών μεθόδων υπό τους κενούς όρους, τα υλικά επένδυσης που ατμοποιούνται στα άτομα, μόρια ή που χωρίζονται στα ιόντα, που κατατίθενται άμεσα στην επιφάνεια της μεθόδου μητρών. Η προετοιμασία των σκληρών αντιδραστικών ταινιών γίνεται συνήθως με τη φυσική μέθοδο απόθεσης ατμού. Χρησιμοποιεί μερικές φυσικές διαδικασίες, όπως η θερμική εξάτμιση των ουσιών ή η επιμετάλλωση των ατόμων στην επιφάνεια των ουσιών όταν βομβαρδίζονται από τα ιόντα, για να πραγματοποιήσει την ελέγξιμη διαδικασία μεταφοράς των ατόμων από το υλικό πηγής στην ταινία. Η φυσική τεχνολογία απόθεσης ατμού έχει τα πλεονεκτήματα της καλής συνδέοντας δύναμης ταινιών/βάσεων, ομοιόμορφος και η συμπαγής ταινία, ελέγξιμο πάχος ταινιών, ευρέα υλικά στόχων, ευρεία ψεκάζοντας σειρά, με παχιά μεμβράνη μπορεί να κατατεθεί, η σταθερή ταινία κραμάτων μπορεί να είναι έτοιμη και καλή επανάληψη. Συγχρόνως, η φυσική τεχνολογία απόθεσης ατμού μπορεί να χρησιμοποιηθεί ως τελική τεχνολογία επεξεργασίας για HSS και τα τσιμενταρισμένα λεπτά εργαλεία καρβιδίου επειδή η θερμοκρασία επεξεργασίας μπορεί να ελεγχθεί κάτω από 500℃. Επειδή η τέμνουσα απόδοση των τεμνόντων εργαλείων μπορεί να βελτιωθεί πολύ με τη χρησιμοποίηση της φυσικής διαδικασίας απόθεσης ατμού, αναπτυσσόμενη τη υψηλή επίδοση και τον υψηλό εξοπλισμό αξιοπιστίας, ο τομέας εφαρμογής του επεκτείνεται, ειδικά στο χάλυβα υψηλής ταχύτητας, το σκληρό κράμα και τα κεραμικά εργαλεία για περισσότερη σε βάθος έρευνα.
Η τεχνολογία απόθεσης χημικού ατμού είναι το στοιχειώδες αέριο που περιλαμβάνει ένα στοιχείο μεμβρανών ή μια σύνθετη βάση ανεφοδιασμού, με την ενίσχυση της φάσης αερίου ή του υποστρώματος στην επιφάνεια μιας χημικής αντίδρασης, στο μέταλλο μεθόδου μητρών παραγωγής ή τη σύνθετη ταινία, κυρίως συμπεριλαμβανομένης της ατμοσφαιρικής απόθεσης χημικού ατμού πίεσης, απόθεση χημικού ατμού χαμηλής πίεσης και έχει και τα χαρακτηριστικά γνωρίσματα CVD και PVD της απόθεσης χημικού ατμού πλάσματος, κ.λπ.

Κύρια πλεονεκτήματα
Υψηλή δύναμη προδιαγραφών χαμηλής πυκνότητας
Προσαρμογή αιτήματος συνήθειας
Άριστη αντίσταση διάβρωσης
Καλή αντίσταση θερμότητας
Άριστη απόδοση χαμηλής θερμοκρασίας
Καλές θερμικές ιδιότητες
Χαμηλός ελαστικός συντελεστής