Άνευ ραφής στόχοι 155OD*125ID*2000mm σωλήνων κενού επιστρώματος νιόβιου

Άνευ ραφής σωλήνας στόχων 155OD*125ID*2000 κενού επιστρώματος στόχων σωλήνων νιόβιου

Το νιόβιο είναι λιγότερο ηλεκτροθετικό από το ζιρκόνιο, στο αριστερό του. Το μέγεθος των ατόμων του είναι σχεδόν ίδιο με αυτό του τανταλίου κάτω από το, το οποίο προκαλείται από lanthanide τη διακένωση. Αυτό καθιστά το νιόβιο χημικά πολύ παρόμοιο με το ταντάλιο. Αν και δεν είναι τόσο ανθεκτικό στη διάβρωση όσο το ταντάλιο, είναι φτηνότερο και πιό κοινό, έτσι το ταντάλιο χρησιμοποιείται συχνά ως εναλλακτική λύση στις λιγότερο απαιτητικές καταστάσεις, όπως οι χημικές δεξαμενές επιστρώματος στα εργοστάσια χημικής βιομηχανίας.
Το νιόβιο μετάλλων μπορεί να προετοιμαστεί με την ηλεκτρολυτική τήξη του καλίου sevoflonobate, μπορεί επίσης να γίνει με τη μείωση του καλίου sevoflonobate με το μέταλλο νατρίου ή τη μείωση του pentaoxide νιόβιου με το μέταλλο αργιλίου. Το καθαρό νιόβιο χρησιμοποιείται για να αφαιρέσει το υπόλοιπο αέριο στο σωλήνα ηλεκτρονίων, και το νιόβιο που ναρκώνει στο χάλυβα μπορεί να βελτιώσει την αντίσταση οξείδωσης του χάλυβα σε υψηλής θερμοκρασίας και να βελτιώσει την απόδοση συγκόλλησης του χάλυβα. Το νιόβιο χρησιμοποιείται επίσης για να κάνει τα υψηλής θερμοκρασίας κεραμομέταλλα. Η προσθήκη του νιόβιου ως microalloyed στοιχείο δεν αλλάζει τη δομή του σιδήρου, αλλά αλλάζει τη μικροδομή του χάλυβα με το συνδυασμό με το θείο αζώτου άνθρακα στο χάλυβα. Η ενισχύοντας επίδραση του νιόβιου στο χάλυβα είναι κυρίως λεπτό σιτάρι που ενισχύει και η διασπορά που ενισχύει, νιόβιο μπορεί να διαμορφώσει τα σταθερά καρβίδια και carbonitrides με τον άνθρακα και το άζωτο στο χάλυβα. Επιπλέον, τα καρβίδια μπορούν να διασκορπιστούν για να διαμορφώσουν τους χάλυβες με τη λεπτή κρυστάλλωση.

Ο στόχος επιστρώματος είναι μια πηγή επιμετάλλωσης που διαμορφώνει τις διάφορες λειτουργικές ταινίες στο υπόστρωμα από magnetron την επιμετάλλωση, την ιονική επένδυση πολυ-τόξων ή άλλους τύπους συστημάτων επιστρώματος υπό τους κατάλληλους τεχνολογικούς όρους. Για να το βάλει απλά, το υλικό στόχων είναι υλικό στόχων χρεωμένου του μεγάλη ταχύτητα βομβαρδισμού μορίων. Όταν χρησιμοποιούνται στα υψηλής ενέργειας όπλα λέιζερ, οι διαφορετικές πυκνότητες ισχύος, τα διαφορετικά κυματοειδή παραγωγής και τα διαφορετικά μήκη κύματος του λέιζερ αλληλεπιδρούν με τους διαφορετικούς στόχους, τα διαφορετικά αποτελέσματα δολοφονιών και καταστροφής θα παραχθούν. Παραδείγματος χάριν, το εξατμιστικό magnetron ψεκάζοντας επίστρωμα είναι θερμαμένο επίστρωμα εξάτμισης, ταινία αργιλίου, αλλαγή κ.λπ. που το διαφορετικό υλικό στόχων (όπως το αργίλιο, ο χαλκός, το ανοξείδωτο, το τιτάνιο, ο στόχος νικελίου, κ.λπ.), μπορεί να πάρει το διαφορετικό σύστημα ταινιών (όπως έξοχοι σκληρός, η ένδυση - ανθεκτική, αντιδιαβρωτική ταινία κραμάτων, κ.λπ.).

Χαρακτηριστικά γνωρίσματα:
Μικρός όγκος
Ελαφρύς
Υψηλής θερμοκρασίας αντίσταση οξείδωσης
Η αντίσταση διάβρωσης